纯净钻石的制造主要通过两种方法：高压高温法（HPHT）和化学气相沉积法（CVD）。

高压高温法（HPHT）：这种方法模拟地球内部自然形成钻石的过程，即将石墨（由纯碳制成）置于高温和高压之下。在HPHT过程中，纯净的碳粉被压缩进一个生长胶囊，随后被放置在一个培育仓中，在极高的温度（高达1300-1600°C）和压力下日复一日，碳原子与碳原子连接在一起形成钻石晶体[1][12]。然而，这种方法制造的钻石纯度相对较低，成本也较低，主要用于工业用途，如制造钻头、刀具等[5]。

化学气相沉积法（CVD）：CVD钻石的制造方法是将混合气体（包括碳、氢和氧）填充腔室，然后将基板添加到腔室中，通常是金刚石种子的晶种片，接着使用微波、激光或热灯丝将腔室加热。这种方法的优势在于能够生产出内部更加纯净的钻石，其纯净度一般在VVS1-SI1之间，大部分都可在VS2以上[2][7]。CVD技术相较于HPHT技术，在纯净度及大颗粒钻石培育上具有优势[13]。

综上所述，要制造纯净钻石，可以选择采用CVD方法，因为这种方法能够生产出内部更加纯净的钻石，且适用于生产大颗粒钻石[2][13]。