上市公司有智光电气、飞凯材料、南大光电和蓝英装备。光刻机，英文名Mask Aligner，又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片的核心装备，主要厂商有ASML、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM Inc。
1. ASML Holding N.V.：是全球领先的光刻机制造商，总部位于荷兰。
2. Nikon Corporation：日本企业，主要从事数码相机、半导体设备等领域，也是一家重要的光刻机制造商。
3. Applied Materials：美国硅谷公司，主要从事半导体设备、太阳能电池板等高科技材料行业；
4. Intel Corporation：美国半导体生产厂商，在芯片设计、生产和销售方面都处于全球领先地位；同时也在加强对光子计算芯片领域的研究和开发。
5. IBM: 美国多元化技术企业，致力于IT、物联网、云计算等技术领域。近年来也在加强对基于量子和光子技术的计算研究。
以上仅为部分相关企业，还有其他一些上市公司也在这些领域有所涉及。
光刻机制造：
- ASML（荷兰）
- Nikon（日本）
- Canon（日本）
- Ultratech（美国）
光子计算芯片制造：
- Intel（英特尔，美国）
- IBM（美国）
- Hewlett Packard Enterprise（惠普企业，美国）
- Hitachi（日本）
- NEC（日本）